Fig. 5는 최상층 ZnO layer의 두께에 따른 광학투과율

Fig. 5는 최상층 ZnO layer의 두께에 따른 광학투과율과 계면
충전밀도를 나타낸 것이다. ZnO/Ag/ZnO film의 투과율은 일
반적으로 ZnO, Ag만으로 이루어진 단층 layer보다 높다. 최상
층 ZnO layer의 두께가 두꺼워 질수록 투과율의 범위가 넓어지
고 최고 투과율이 상승하며 가장 민감한 파장 496nm에서
541nm으로 적색편이를 하는 것이 관찰되어 졌다. 일반적으로
계면충전밀도는 전자의 이동 때문에 Ag-ZnO의 계면에서 발생
된다고 예상된다. 그러나 만약 일정한 파동이 계면충전밀도와
입사광에 발생하면 두 번째 파동이 투과율을 높여 주기 위해
계면충전으로부터 변이되어 발생한다. Fresnel의 반사법칙에 따
라 ZnO와 Ag의 계면에 입사광과 투과광의 관계가 하나만 발생
한다면 투과율은 400nm에서 800nm의 파장에서 일정하고 단층

結果 (繁體中文) 1:

頂部厚度層導致光學透過率和氧化鋅介面圖 5電荷密度。ZnO/Ag/ZnO 薄膜的透氣性，范是理想高於單層氧化鋅，Ag 單獨的一層。一流的品質氧化鋅層的厚層更多滲透率範圍從擴張最敏感的波長透射率和最高上升 496nm541nm 紅移已被觀察到。一般來說，介面電荷密度是由於電子的運動發生在 Ag ZnO 介面它預期的。然而，如果是不斷激增的介面電荷密度和如果您遇到以增加入射光的透射率的第二個激增介面是從電荷的變化。菲涅耳反射定律的拉氧化鋅和銀的只有入射光和透射的光的表面生成的關係如果在透光率和故障 800nm 400nm 的波長

結果 (繁體中文) 2:

圖 圖5是根據最上層和ZnO層的厚度的光傳輸界面
示出了填充密度。氧化鋅/銀/氧化鋅薄膜透氣一個
比僅由一層氧化鋅，銀，一般的層高。頂端
層更厚的ZnO層的厚度沒有更寬範圍的傳輸的
在496nm的最敏感的波長頂傳輸和高層
觀察到紅移至541nm。在一般情況下，
在銀的ZnO之間的界面產生的界面電荷密度，因為電子的移動
，預計將有。但如果常數和界面電荷密度波
事件發生時在第二波以增加透氣性
源於突變充電接口。根據反射菲涅耳定律
的事件的拉關係和透射光僅發生在ZnO和Ag的接口
，如果透射率是恆定在400納米和800納米的單層的波長