도 2, 도 3 및 도 5를 참고하면 본 발명에 따른 기구의 수

도 2, 도 3 및 도 5를 참고하면 본 발명에 따른 기구의 수평 기준을 유지하는 진공 챔버는 일반적인 환경 또는 진공 배기 환경에 적용될 수 있다. 이하, 본 발명이 진공 배기 환경에 적용되고 내부에 라미네이팅 장치(70)가 설치된 것을 예로 들어 한층 더 설명한다. 라미네이팅 장치(70)는 스트립(80)에 대해 상부 필름 테이프(81) 및 하부 필름 테이프(82)의 라미네이팅 접합을 진행하기 위한 것이다. 전술한 스트립(80)은 동박 기판 또는 플라스틱 기판과 같은 기판일 수 있으며, 전술한 상부 필름 테이프(81)와 하부 필름 테이프(82)는 스트립(80)에 부착하는 데 이용되는 박막이다. 진공 라미네이팅 머신은 전술한 바와 같은 기구의 수평 기준을 유지하는 진공 챔버와 라미네이팅 장치(70)를 포함한다.

結果 (繁體中文) 1:

圖2中，參照圖3和5，將真空室保持根據本發明的機構的水平基準可以適用於一般的環境或真空排氣環境。在下文中，本發明被描述為一個例子，並進一步被施加到真空排氣環境設置在其中的層壓裝置70。層壓裝置（70）是進行到鍵合在上部膜81和下部膜帶82到帶80上的層合帶。上述帶80可以是襯底，如銅箔基板或塑料基板，頂膜帶81和下薄膜帶上述82的薄膜，其用於所述條帶（80）附連。真空層壓機包括真空室和層壓裝置70，以保持機構的水平參考如上所述。

結果 (繁體中文) 2:

2、3、5指真空室保持水準標準的機構，根據本發明可應用於一般環境或真空排氣環境。下文將本發明應用於真空排氣環境，並進一步描述為內部安裝層壓裝置70的一個例子。層壓裝置70是進行層壓粘接的上部薄膜膠帶81和下膜膠帶82的帶80。上述帶80可以是基板，如銅箔基板或塑膠基板，上述上部薄膜膠帶81和下膜膠帶82是用於附著在帶80上的薄膜。真空層壓機包括真空室和層壓裝置70，以保持上述機構的水準標準。

結果 (繁體中文) 3:

圖2、度3、度5等參攷，可以適用於本發明的機构水准標準的真空冠軍。以下，本發明適用於真空排氣環境，並例如內部安裝了羅美人裝置（70歲）。拉丁裝置（70歲）是為了進行上層膠帶（81歲）和下部膠帶（82歲）的羅位元組接合。傳授的strip（80歲）可能是像銅板或塑膠板一樣的棋盤，是一種專門的上部膠帶（81）和下部膠帶（82）是用於附著strip（80歲）的薄膜。珍貢美國英機械包括維持先行水准標準的真空冠軍和拉丁裝置（70）。